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早在20世纪80年代,许步云就对8?14μm和2?14μm两个波长范围的宽带増透膜进行了研究。关于宽带増透膜镀制基底材料的选择是十分关键的,例如周团团等采用离子束辅助沉积技术,在钼酸铅晶体表面镀制了宽红外増透膜,该研究在光纤通信领域的发展中有着重要意义。除此之外,目前在中红外増透膜的研究中,以Ge、Si等高折射率材料作为基底的研究很多,比如1998年,黄伟等分别使用高、低折射率材料ZnSe和BaF2在Ge基片上镀制的红外宽带増透膜在8?12μm波段的平均透过率达到97%;之后,李大琪等将宽带増透膜的研究带宽増加到了6.4?15μm,这一成果在航天航空遥感信息领域具有重要意义;闫兰琴等在Ge基底上镀制的以Ge、ZnS和YbF3为高、中、低折射率材料的红外増透膜平均透过率大于98%,最大透过率更是高达99.2%(但是其透过带宽7.5?11.5μm相对有所减小)。

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膜层厚度的不均匀性会导致薄膜器件的特征波长发生变化,在其他性能方面往往没有必然影响,而膜层整体误差则会导致薄膜的性能下降。

光学薄膜系指在光学元件或独立基板上,制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合,以改变光波之传递特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变。故经由适当设计可以调变不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。

根据(2)式计算可知,当平均自由程等于蒸发源到基底的距离时,有63%的蒸发粒子发生碰撞;如果平均自由程增加10倍,则碰撞的粒子数减小到9%。可见,只有在平均自由程比蒸发源到基底的距离大得多的情况下,才能有效地减少碰撞现象的发生。

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这种涂层的使用可以开辟新的领域,研究有前途的二维材料,包括tmds和黑磷,但也有可能硅、锡和其他相关材料。因为黑磷是所有这些材料中最脆弱和最容易降解的,所以这就是他们最初的概念证明。

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可见和近红外光谱分析具有信息量大、测试种类 多、无损测试等优点,因此镀制可见与近红外的増透膜在分析测试领域有着重要意义,贺才美等以多光谱ZnS(硫化锌)为基底,以ZnS和YbF3(氟化镱)为高低折射率材料所镀制的増透膜在400?1000nm的平均透射率大于91%,实现了可见与近红外的増透效果;杨道奇等分别以TiO2(二氧化钛)、M1(主要成分是Pr:Al2O3)和SiO2(二氧化硅)为高、中、低折射率材料镀制増透膜,并在620?1550nm的平均透射率达到97%;李帅等用TiO2和SiO2作为高低折射率材料,在K9玻璃上镀制的増透膜在0.55?0.78μm和1.0?1.3μm波段的平均透过率达到了97.04%。

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